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D.J.T.Hill*; 工藤 久明; 瀬口 忠男
Radiation Physics and Chemistry, 48(5), p.569 - 576, 1996/00
被引用回数:10 パーセンタイル:65.24(Chemistry, Physical)芳香族系の熱可塑性エンジニアリングプラスチックであるポリサルホン類を、室温からガラス転移温度(約200C)の範囲で電子線照射して、引張特性の変化を調べた。室温照射では50kGy程度で、引張特性は向上するが、照射温度を上げるにつれてこの効果は小さくなった。これらの結果はガンマ線照射でも見られた。50kGy以上の照射では、引張特性は劣化していった。高温での照射では、照射で切断した分子鎖の末端が動きやすいために、分子鎖間の相互作用が促進されて引張特性が向上すると考えられる。
中瀬 吉昭; 柳 忠*; 植村 忠廣*
Journal of Nuclear Science and Technology, 31(11), p.1214 - 1221, 1994/11
被引用回数:12 パーセンタイル:71.34(Nuclear Science & Technology)放射性廃液の濃縮用逆浸透膜として、架橋芳香族ポリアミド複合膜の採用を検討した。複合膜を湿潤状態で放射線を照射し、機械的性質、熱的性質の変化及び無機塩水溶液の濃縮挙動を検討した。本複合膜の機械的性質などの照射劣化は、湿潤状態における方が乾燥状態よりも激しく起る。これは照射に伴って系中に生成したOHラジカルに基づくものと推定する。NaCl水溶液の濃縮を2MGy照射した複合膜で行い、塩排除率88%で透過水量は未照射試料の90%を確保できることがわかった。
Hegazy, EI-Sayed A.*; 貴家 恒男; 西井 正信; 瀬口 忠男
Polymer, 33(14), p.2897 - 2903, 1992/00
被引用回数:45 パーセンタイル:85.27(Polymer Science)Kapton, UPILEX, ポリエーテル・エーテル・ケトン(PEEK), ポリスルホンなど8種類の全芳香族ポリマーについて、真空中の線照射による発生ガス分析を行った。全発生ガスの発生のG値は脂肪族ポリマーの1/1001/1000であり、ガス発生量から求めた放射線に対する安定性の序列はUPILEXKaptonPEEKポリスルホンであった。発生ガスの成分は、Kapton, UPILEXの場合、H, N、PEEKではH, CO, CO、ポリスルホンではSO, CO,COであった。